| Sakup sa wavelength | : | 190-1100nm |
| Spectral nga Bandwidth | : | 2nm (5nm, 4nm, 1nm, 0,5nm opsyonal) |
| Pagkatukma sa wavelength | : | ± 0.3nm |
| Wavelength Reproducibility | : | ≤0.15nm |
| Sistema sa Photometric | : | Doble nga beam, auto scan, doble nga mga detektor |
| Pagkatukma sa Photometric | : | ±0.3τ (0~100τ) ± 0.002A (0~0.5A) ±0.004A (0.5~1A) |
| Photometric Reproducibility | : | ≤0.15%τ |
| Mode sa Pagtrabaho | : | T, A, C, E |
| Photometric Range | : | -0.3-3.5A |
| Liag nga Kahayag | : | ≤0.05%τ (Nal, 220nm, NaNO2 360nm) |
| Baseline Flatness | : | ±0.002A |
| Kalig-on | : | ≤0.001A/h (sa 500nm, human sa pagpainit) |
| Saba | : | ± 0.001A (sa 500nm, human sa pagpainit) |
| Pagpakita | : | 6 pulgada nga taas nga kahayag nga asul nga LCD |
| Detektor | : | Silicon photo-diode |
| Gahum | : | AC 220V/50Hz, 110V/60Hz 180W |
| Mga sukat | : | 630×470×210mm |
| Gibug-aton | : | 26kg |
| Sakup sa wavelength | : | 190-1100nm |
| Spectral nga Bandwidth | : | 2nm (5nm, 4nm, 1nm, 0,5nm opsyonal) |
| Pagkatukma sa wavelength | : | ± 0.3nm |
| Wavelength Reproducibility | : | 0.15nm |
| Sistema sa Photometric | : | Pag-monitor sa ratio sa split-beam, auto scan, dual detector |
| Pagkatukma sa Photometric | : | ±0.3τ (0~100τ) ± 0.002A (0~0.5A) ±0.004A (0.5~1A) |
| Photometric Reproducibility | : | 0.2% t |
| Mode sa Pagtrabaho | : | T, A, C, E |
| Photometric Range | : | -0.3-3A |
| Liag nga Kahayag | : | ≤0.05%τ (Nal, 220nm, NaNO2 360nm) |
| Baseline Flatness | : | ±0.002A |
| Kalig-on | : | ≤0.001A/30min (sa 500nm, human sa pagpainit) |
| Saba | : | ± 0.001A (sa 500nm, human sa pagpainit) |
| Pagpakita | : | 6 pulgada nga taas nga kahayag nga asul nga LCD |
| Detektor | : | Silicon photo-diode |
| Gahum | : | AC 220V/50Hz, 110V/60Hz 180W |
| Mga sukat | : | 630×470×210mm |
| Gibug-aton | : | 26kg |
| Sakup sa wavelength | : | 190-1100nm |
| Spectral nga Bandwidth | : | 2nm (5nm, 1nm, opsyonal) |
| Pagkatukma sa wavelength | : | ± 0.3nm |
| Wavelength Reproducibility | : | 0.2nm |
| Sistema sa Photometric | : | Single beam, plane grating nga 1200L/mm |
| Pagkatukma sa Photometric | : | ±0.3τ (0~100τ) ± 0.002A (0~0.5A) ±0.004A (0.5~1A) |
| Photometric Reproducibility | : | ≤0.15%τ |
| Mode sa Pagtrabaho | : | T, A(-0.3-3A), C, E |
| Photometric Range | : | -0.3-3A |
| Liag nga Kahayag | : | ≤0.05%τ (Nal, 220nm, NaNO2 360nm) |
| Baseline Flatness | : | ±0.002A |
| Kalig-on | : | ≤0.001A/30min (sa 500nm, human sa pagpainit) |
| Saba | : | ± 0.001A (sa 500nm, human sa pagpainit) |
| Pagpakita | : | 6 pulgada nga taas nga kahayag nga asul nga LCD |
| Detektor | : | Silicon photo-diode |
| Gahum | : | AC 220V/50Hz, 110V/60Hz 140W |
| Mga sukat | : | 530×410×210mm |
| Gibug-aton | : | 18kg |
| Sakup sa wavelength | : | 320-1100nm |
| Spectral nga Bandwidth | : | 2nm (5nm, 1nm, opsyonal) |
| Pagkatukma sa wavelength | : | ± 0.5nm |
| Wavelength Reproducibility | : | 0.2nm |
| Sistema sa Photometric | : | Single beam, plane grating nga 1200L/mm |
| Pagkatukma sa Photometric | : | ±0.3τ (0~100τ) ± 0.002A (0~0.5A) ±0.004A (0.5~1A) |
| Photometric Reproducibility | : | ≤0.15%τ |
| Mode sa Pagtrabaho | : | T, A, C, E |
| Photometric Range | : | -0.3-3A |
| Liag nga Kahayag | : | ≤0.05%τ (Nal, 220nm, NaNO2 360nm) |
| Baseline Flatness | : | ±0.002A |
| Kalig-on | : | ≤0.001A/30min (sa 500nm, human sa pagpainit) |
| Kahayag nga Tinubdan | : | Tungsten halogen lamp |
| Pagpakita | : | 6 pulgada nga taas nga kahayag nga asul nga LCD |
| Detektor | : | Silicon photo-diode |
| Gahum | : | AC 220V/50Hz, 110V/60Hz 140W |
| Mga sukat | : | 530×410×210mm |
| Gibug-aton | : | 18kg |